RESEARCH

共同研究(企業・国内と海外の大学)

我々は研究で明らかになった知見や技術を、国内の企業様との共同研究を通じて、社会に還元したいと考えています。共同研究・知財のライセンス提供のほか、社会人博士課程へ入学も歓迎します。

北海道大学 産学・地域協働推進機構

特に我々が2018年から研究を行っているメカノケミカル有機合成は、反応溶媒の大幅な削減、反応の高速化、不溶性基質の変換、機械的な力による固体基質の活性化など、これまでの溶液系有機合成にはない多くの特徴があります。これらについて、企業様・国内外の大学との共同研究を推し進めています。「ある反応をメカノケミカルで行いたいが、最初の一歩が踏み出せない」とお考えの方は一度ご連絡ください。例えば当研究室で初期の条件検討を実施するなどのお手伝いをできればと考えています(企業の場合における知財の扱いについては要相談)。

特許リスト(2022年12月現在)

出願14件(セット) 公開済み10件・未公開4件

  • [14] 特願2022-194076(ホモカップリング反応方法)出願日:2022.12.5 出願人:国立大学法人北海道大学
  • [13] 特願2022-151597(りん光発光イリジウム錯体のメカノケミカル合成)出願日:2022.9.22 出願人:国立大学法人北海道大学、三菱ケミカル株式会社
  • [12] 特願2022-096046(芳香族化合物の製造方法)出願日:2022/6/14 出願人:日本化学工業株式会社、国立大学法人北海道大学
  • [11] 特願2022-033684(メカノケミカル反応用添加剤、メカノケミカル方法、配位子化合物及び錯体)出願日:2022.3.4 出願人:国立大学法人北海道大学
  • [10] 国際公開2022/196796(有機金属求核剤の製造方法、及び有機金属求核剤を用いる反応方法)出願日:2022.3.18 出願人:国立大学法人北海道大学
    特願2022-551338 US-1- 17/996070 EP-1-22771541.4 CN-1-2022111800607830
  • [9] 特開2022-072538(化合物)出願日:2020.10.30 出願人:国立大学法人北海道大学、三菱ケミカル株式会社
  • [8] 国際公開2022/092260 (反応方法及びその反応に用いる装置)出願日:2021.10.30 出願人:国立大学法人北海道大学
  • [7] 国際公開2021/177290 (脱離基を有するモノクロスカップリング芳香族化合物の製造方法)出願日:2021.3.2 出願人:国立大学法人北海道大学
    特願2022-504388 EP 21764165.3 US 17/908197
  • [6] 国際公開2021/045207(圧電材料を利用するメカノレドックス反応及びその反応を用いる製造方法)出願日:2020.9.4 出願人:国立大学法人北海道大学
    特願2021-544060 EP 4026821.A1 US 2022306654.A1 CN 114364661.A
  • [5] 特許7023019(溶媒を使用しないクロスカップリング反応及びその反応を用いる製造方法)出願日:2019.10.23 権利者・出願人:国立大学法人北海道大学
    WO-A-2020/085396 US-B-11453678 CN-A-112888668 EP-A1-003872055 IN-A-202147022197
  • [4] 特許6635639(2,3-ビスホスフィノピラジン誘導体、その製造方法、遷移金属錯体及び不斉触媒並びに有機ホウ素化合物の製造方法)出願日:2019.3.1 権利者・出願人:日本化学工業株式会社、国立大学法人北海道大学
    WO.2019172150.A1 CN.111655708.A  US.11084835.B2 IN20207029665
  • [3] 特許6547087(光学活性な2,3-ビスホスフィノピラジン誘導体、その製造方法、遷移金属錯体及び有機ホウ素化合物の製造方法)出願日:2018.9.28 権利者:日本化学工業株式会社、国立大学法人北海道大学
    WO.2019069828.A1 US.11053265.B2 CN.111032668.B IN202037018026
  • [2] 国際公開2018/159628(アミノ酸型アシルボランおよびその製造方法)出願日:2018.2.27 出願人:国立大学法人北海道大学
    特願2019-503031
  • [1] 特許6444054(有機ホウ素化合物の製造方法)出願日:2014.5.2 権利者:富士フイルム和光純薬株式会社、国立大学法人北海道大学

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伊藤 肇 教授

E-mail: hajitoeng.hokudai.ac.jp